物理气相沉积法(关于物理气相沉积法简述)
行者无疆
精选回答
1、物理气相沉积(Physical Vapor Deposition简称PVD) 是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化,在基体表面沉积成膜的方法。
2、除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外,还包括近30 多年来蓬勃发展起来的各种离子束沉积,离子镀和离子束辅助沉积技术。
3、其沉积类型包括: 真空蒸镀、溅射镀、离子镀等。
4、物理气相沉积技术虽然五花八门,但都必须实现气相沉积三个环节,即镀料(靶材) 气化一气相输运一沉积成膜。
点颗许愿烟 2023-12-24 11:34:43
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