真空磁控溅射技术(关于真空磁控溅射技术简述)
睡不着的深夜
精选回答
1、真空磁控溅射技术是指一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱,使在E×B的作用下电子紧贴阴极表面飘移。
2、设置一个与靶面电场正交的磁场,溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动,增加了电子行程,提高了气体的离化率,同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量,基体温度较低,在不耐温材料上可以完成镀膜。
3、这种技术是玻璃膜技术中的最尖端技术,是由航天工业、兵器工业、和核工业三个方面相结合的顶尖技术的民用化,民用主要是通过这种技术达到节能、环保等作用。
懂得失去 2023-12-22 13:43:11
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